Sintesis dan Karakterisasi Semikonduktor CuO dengan Metode DC Sputtering

Restiannisa, Rifliany (2019) Sintesis dan Karakterisasi Semikonduktor CuO dengan Metode DC Sputtering. Bachelor thesis, Universitas Ahmad Dahlan.

[thumbnail of T1_1400014009_NASKAH PUBLIKASI.pdf]
Preview
Text
T1_1400014009_NASKAH PUBLIKASI.pdf

Download (902kB) | Preview

Abstract

Penelitian ini mengenai fabrikasi dan karakterisasi semikonduktor berupa lapisan tipis CuO yang dideposisi menggunakan metode DC Sputtering pada substrat kaca dengan target tembaga (Cu) yang direaksikan dengan gas Oksigen (O2). Proses DC sputtering berlangsung pada tegangan 2 kV, arus 40 mA dan tekanan ruang deposissi 3 x 10-2 Torr. Waktu yang digunakan pada proses sputtering masing-masing yaitu 10, 15, 20, 25 dan 30 (menit) dengan rasio konsentrasi gas reaktan yang tetap yaitu 71% Ar : 29% O2. Kemudian dengan waktu yang tetap 10 menit, divariasikan lagi berdasarkan rasio konsentrasi gas reaktan Ar : O2 yaitu 58% : 42%, 71% : 29%, 82% : 18% dan 90% : 10%. Lapisan tipis hasil deposisi diuji menggunakan alat X-Ray Diffraction (XRD) untuk memastikan senyawa yang terbentuk di permukaan substrat. Hasil XRD menunjukkan bahwa pada waktu deposisi 10 menit dengan rasio gas reaktan Ar : O2 yaitu 71 % : 29% dihasilkan senyawa CuO murni. Uji karakteristik optik dan elektrik menghasilkan nilai energy gap pada rentang 1,83 – 2,51 (eV) dan resistivitas pada rentang 0,03 – 22,92 (Ω.cm).

Item Type: Thesis (Bachelor)
Subjects: L Education > LC Special aspects of education
Divisi / Prodi: Faculty of Industrial Technology (Fakultas Teknologi Industri) > S1-Food Technology (S1-Teknologi Pangan)
Depositing User: publikasi uad
Date Deposited: 07 Oct 2019 02:22
Last Modified: 07 Oct 2019 02:22
URI: http://eprints.uad.ac.id/id/eprint/15187

Actions (login required)

View Item View Item