PENENTUAN KEHALUSAN LAPISAN TIPIS Ni80Fe20 MELALUI NILAI KAPASITANSI LAPISAN PADA UNTAI TAPIS R-C LOLOS RENDAH

Toifur, Moh. and Aghnani Nurhamidy, Venty and Sujatmoko, Sujatmoko (2005) PENENTUAN KEHALUSAN LAPISAN TIPIS Ni80Fe20 MELALUI NILAI KAPASITANSI LAPISAN PADA UNTAI TAPIS R-C LOLOS RENDAH. [Artikel Dosen]

Text jurnal sains materi indonesai.pdf Download (3MB)

Abstract

Telah dilakukan penelitian tentang watak kapasitif lapisan tipis Ni80Fe20 hasil deposisi dengan teknik sputtering pada variasi medan deposisi dari 0 G sampai dengan 600 G. Penelitian bertujuan untuk mengetahui tingkat kehalusan lapisan dengan menentukan nilai kapasitor dalam lapisan jika porositas dalam lapisan diperlakukan sebagai kapasitor, serta unjuk kerja lapisan sebagai tapis lolos rendah. Rangkaian terdiri dari tahanan R = 769,9 ohm yang dihubungkan secara seri dengan lapisan dan dipasok tegangan AC dari AFG. Pengamatan watak kapasitif dilakukan pada frekuensi 100 kHz sedangkan pengamatan frekuensi potong dilakukan pada frekuensi 100 kHz sampai dengan 1000 kHz. Tegangan output dan input diamati melalui osiloskop. Dari karakterisasi watak kapasitif menunjukkan bahwa semua lapisan menunjukan watak kapasitif. Sampel hasil deposisi pada Bdep = 300 G memiliki kapasitansi terkecil yaitu 0,09 pF, hal mana menunjukkan lapisan yang paling halus dibanding lapisan yang lain. Lapisan ini dapat menapis frekuensi hingga 253,5 Hz.

Item Type:	Artikel Dosen
Subjects:	Q Science > QC Physics
Divisi / Prodi:	Faculty of Teacher Training and Education (Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan) > S2-Masters in Physics Education (S2-Pendidikan Fisika)
Depositing User:	Dr., M.Si. Moh Toifur
Date Deposited:	09 Jan 2020 01:11
Last Modified:	09 Jan 2020 01:11
URI:	http://eprints.uad.ac.id/id/eprint/16294

Actions (login required)

View Item