PERBAIKAN KINERJA PROBE 4 TITIK MELALUI PELAPISAN PERAK DENGAN METODE ELECTROPLATING PADA VARIASI WAKTU DEPOSISI

Toifur, Moh. and Asmiarto, Didik (2017) PERBAIKAN KINERJA PROBE 4 TITIK MELALUI PELAPISAN PERAK DENGAN METODE ELECTROPLATING PADA VARIASI WAKTU DEPOSISI. [Artikel Dosen]

Text urecal-1-pages-2-23-merged jadi.pdf Download (860kB)

Abstract

Pada penelitian ini telah dilakukan perbaikan kinerja alat probe 4 titik yang terbuat dari tembaga
dilapisi perak menggunakan teknik electroplating. Untuk menentukan waktu deposisi terbaik
dilakukan percobaan pelopor deposisi perak pada pelat tembaga dengan waktu divariasi dari 30
s – 180 s. Sebagai larutan elektrolit digunakan larutan kalium sianida dengan konsentrasi 27,6
g/L yang dipanasi pada suhu 70C. Hasil deposisi menunjukkan bahwa waktu 90 s paling baik
untuk pembentukan lapisan perak berstruktur kristal homogenitas lapisan serta resistivitas (Rs)
keping terendah yaitu (1,52  0,20) /sq. Selanjutnya parameter-parameter proses yang telah
diperoleh diaplikasikan pada pelapisan perak pada kaki-kaki probe 4 titik. Kinerja probe yang
terlapisi perak diujikan pada lapisan NiFe yang sebelumnya telah diukur (36,41  4,29) /sq.
Hasilnya diperoleh resistivitas keping (33,92  0,74) /sq sehingga deposisi Ag pada probeprobe
Cu dapat memperbaiki kinerja probe 4 titik yaitu menurunkan resistivitas keping sebesar
6,84%.

Item Type:	Artikel Dosen
Subjects:	Q Science > QC Physics
Divisi / Prodi:	Faculty of Teacher Training and Education (Fakultas Keguruan dan Ilmu Pendidikan) > S2-Masters in Physics Education (S2-Pendidikan Fisika)
Depositing User:	Dr., M.Si. Moh Toifur
Date Deposited:	09 Jun 2020 06:18
Last Modified:	09 Jun 2020 06:18
URI:	http://eprints.uad.ac.id/id/eprint/18977

Actions (login required)

View Item