Muchlas, M and Sutikno, Tole and Hermawan, Bambang (2004) Otomatisasi Proses Sputtering Berbasis Mikrokontroler AT89C51. TELKOMNIKA: Indonesian Journal of Electrical Engineering, 2 (3). ISSN 1693-6930
Preview |
Text
2004-muchlas-TELKOMNIKA_otomatisasi-proses-sputtering.pdf - Published Version Download (146kB) | Preview |
Abstract
Saat ini proses sputtering di laboratorium Akselerator P3TM-BATAN Yogyakarta dilakukan secara manual oleh seorang operator. Proses sputtering merupakan pendeposisian lapisan tipis antara 2 senyawa. Pengendalian secara manual tersebut memiliki kelemahan-kelemahan fundamental, seperti ketelitian timer yang rendah dan pengoperasian yang tidak praktis serta mengandung resiko yang tinggi terhadap proses sputtering.Perlu dirancang suatu sistem kendali otomatis pada proses sputtering berbasis mikrokontroler AT89C51 yang dapat memperbaiki kelemahan-kelemahan tersebut. Hasil sampel proses sputtering berupa Aluminium-Seng dengan pengujian pada XRF diperoleh kesamaan ketebalan lapisan tipis sebesar 80 netto dengan toleransi 2 %. Sistem kendali manual yang ada dapat digantikan dengan sistem otomatis berbasis mikRokontroler AT89C51 dengan sensor suhu dan timer digital. Ketelitian hasil sistem timer 10 menit sebesar 99,9819 %, timer 15 menit sebesar 99,9909 %, timer 20 menit sebesar 99,9884 %, timer 25 menit sebesar 99,9936 %, dan timer 30 menit sebesar 99,9966 %.
| Item Type: | Artikel Umum |
|---|---|
| Subjects: | T Technology > TK Electrical engineering. Electronics Nuclear engineering |
| Divisi / Prodi: | Faculty of Industrial Technology (Fakultas Teknologi Industri) > S1-Electrical Engineering (S1-Teknik Elektro) |
| Depositing User: | Dr. Muchlas , M.T. |
| Date Deposited: | 07 Sep 2017 07:43 |
| Last Modified: | 07 Sep 2017 07:43 |
| URI: | http://eprints.uad.ac.id/id/eprint/7125 |
Actions (login required)
 |
View Item |